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2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2可安裝直徑為2“的靶材，適用靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環形NdFeB永磁體在濺射頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。可與DC或RF電源配合使用。

1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD可安裝直徑為1“的靶材。可與直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，因此可濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。且采用高真空的結構設計，可提高鍍膜質量。

100W小型手動匹配型射頻電源RF-100-LD頻率為13.56MHz，專門與本司1“的磁控濺射頭配用，可搭建成一套較廉價的濺射鍍膜系統，用于制作非導電薄膜。

300W小型自動匹配型射頻電源RF-300I-LD將自動匹配器和13.56MHz的射頻電源集成在一起，可以自動匹配容抗和感抗，使得安裝和操作更加方便容易。配用本司的磁控濺射頭可自行搭建磁控濺射鍍膜儀。

500W直流濺射電源DC-500-LD主要適用于我公司制造的VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀和VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀，主要為濺射儀提供直流電源，配合磁控濺射頭達到濺射靶材的目的。